盛美半導體設備發佈Ultra Furnace立式爐設備，進軍乾法制程市場
前言：
- 盛美首台立式爐產品首供LPCVD市場，未來將推廣至氧化，退火和ALD等目標市場
- 展示了中韓研發團隊合作新成果
2020年4月28日--盛美半導體設備（納斯達克：ACMR），先進半導體設備的領先晶圓清洗設備供應商，今天發佈了立式爐設備（Ultra Furnace）——首台為多種乾法制程應用開發的系統。首台立式爐設備優化後可實現高性能的低壓化學氣相沉積（LPCVD）應用，同時該設備平台還可延伸至氧化和退火，以及原子層沉積(ALD)等應用。此次的立式爐設備也展現了盛美中國和韓國研發團隊為時兩年的合作成果。
圖：Ultra Furnace立式爐產品
“先進的技術節點帶來了持續的挑戰，這就要求設備供應商進行創新。而這種市場需求給盛美提供了重要的機會。” 盛美半導體設備董事長王暉表示：“不斷創新是盛美的DNA。我們發現了可以受益於我們技術的市場需求，所以就將我們的技術延伸至該新的細分市場，在盛美已建立的濕法制程產品系列上增加了Ultra Furnace立式爐產品系列，這樣既可以為客戶的先進產品提供整體解決方案，同時又擴大了我們的市場機遇。”
“Ultra Furnace立式爐產品是由我們中國和韓國的專業團隊合作開發差異化技術的成果。” 盛美半導體韓國公司執行長金泳律說：“盛美韓國團隊的成立讓我們頂尖的上海團隊如虎添翼，加速了我們進軍市場的速度，也可給本土的客戶提供優秀的技術支援。”
沉積制程是指，在高溫下化學氣體在晶圓表面上反應形成氧化矽或者氮化矽膜層。Ultra Furnace立式爐系統可用於批量處理多至100片12英寸（300毫米）晶圓。創新的系統設計使用了新開發的硬體，提高了耐用性，同時搭載了盛美成熟的軟體技術、專有的控制系統和演算法。這些特點保證了設備能穩定地控制制程壓力、氣體流量和溫度。
目前盛美Ultra Furnace立式爐主要面向LPCVD制程市場，後續只需對其元件和佈局進行一些局部變更，就可滿足其它目標應用需求。85%左右的硬體設定可保持不變，所以可有效地實現面向新應用的變動。
盛美半導體Ultra Furnace立式爐目標市場以中國大陸為起點，逐步向韓國和臺灣市場推進。盛美已於2020年初，向中國一家重要的邏輯客戶的製造工廠交付了第一台Ultra Furnace。該設備用於LPCVD，目前已經在用戶端安裝並進行驗證。
請聯繫下列區域的盛美半導體設備銷售代表，以獲得更多Ultra Furnace立式爐設備資訊。
關於盛美半導體設備公司
盛美半導體設備公司從事對先進積體電路製造與先進晶圓級封裝製造行業至關重要的單片晶圓或槽式濕法清洗設備、電鍍設備、無應力拋光設備和熱處理設備的研發、生產和銷售。並致力於向半導體製造商提供定制化、高性能、低消耗的工藝解決方案，來提升他們多個步驟的生產效率和產品良率。
盛美半導體設備公司從事對先進積體電路製造與先進晶圓級封裝製造行業至關重要的單片晶圓或槽式濕法清洗設備、電鍍設備、無應力拋光設備和熱處理設備的研發、生產和銷售。並致力於向半導體製造商提供定制化、高性能、低消耗的工藝解決方案，來提升他們多個步驟的生產效率和產品良率。
