2017年3月22日--明導國際(Mentor Graphics)今天宣佈，該公司的Calibre®平台((Calibre nmDRC™、Calibre Multi-Patterning、 Calibre nmLVS™、Calibre YieldEnhancer with SmartFill 和Calibre xACT™ 工具)以及Analog FastSPICE (AFS™)電路驗證平台已通過台積電(TSMC)最新版本的12FFC製程認證。此外，Calibre平台(Calibre nmDRC、Calibre Multi-Patterning、Calibre nmLVS、Calibre PERC™和 Calibre YieldEnhancer with SmartFill 工具)、Nitro-SoC佈局繞線(P&R)平台、以及AFS平台也已通過台積電 7奈米V1.0製程認證。
Calibre實現套件現在已可支援最新的TSMC 12FFC製程設計協助客戶的設計。此外，AFS電路驗證平台，包括AFS Mega，技術已成熟(readiness)可支援12FFC技術與台積電建模介面(TMI)。
對於台積電 7奈米製程，完整的Calibre實現套件現已更新至V1.0版本，適用於客戶的生產設計交付製造。歷經數回的改版發表，台積電與明導持續合作提升Calibre DRC 執行效能。目前的V1.0版本與初期的版本相比，執行速度已顯著提升。
可靠度是現今許多電子產品成功的關鍵因素。台積電與明導國際擴展其合作關係至7奈米製程，可提供完備的靜電放電(ESD)與閂鎖(latch-up)問題驗證，這些都會對可靠的效能與產品使用壽命帶來影響。此合作關係也造就了Calibre PERC工具中的多CPU運算功能發展，能被用來進行全設計的點對點(P2P)阻抗和電流密度(CD)檢查。
工程變更指令(ECO)通常都會在設計流程的後期才發生，而影響了交付製造的時程。為了加速雙方客戶達到設計收斂的能力，台積電與明導國際合作，擴展Calibre YieldEnhancer ECO填充流程從20奈米一直到最新的7奈米技術。ECO填充流程能讓客戶快速管理最後階段的設計變更，並確保變更仍能符合TSMC的製造需求。
AFS平台，包括AFS Mega電路模擬器，已通過台積電7奈米V1.0製程認證。全球領先半導體業者的類比、混合訊號與RF設計團隊都將獲益於採用AFS平台，以有效地驗證使用台積電的最新技術所設計的晶片。
明導的Nitro-SoC P&R平台已進一步增強，可滿足台積電 7奈米設計實現與認證的所有需求。明導還展現了其7奈米技術的成熟度，透過利用Nitro-SoC P&R平台成功地建置了ARM處理器，現在已就緒可供客戶佈署之用。
台積電設計建構行銷部資深處長Suk Lee表示：「我們與明導國際的持續合作關係，可確保雙方客戶在每個製程成功製造晶片所需的EDA解決方案與服務都能獲得供應與支援。透過我們的攜手合作，結合兩家公司的專業技術，將能協助我們的客戶在市場上獲得成功。」
明導國際副總裁暨設計與製造部門總經理Joe Sawicki表示：「我們與台積電的夥伴關係是非常重要的，不僅在於找出新技術帶來的挑戰，更要能開發出解決方案，以確保我們的雙方客戶在運用新技術優勢的同時，還能完成符合台積電製造需求的設計。客戶的成功，也就是我們的成功。」
關於 Mentor Graphics
Mentor Graphics Corporation 是電子硬體和軟體設計解決方案的世界領導者，為世界上大多數成功的電子、半導體和系統公司提供產品、諮詢服務和屢獲殊榮的技術支援。公司成立於 1981 年，所公佈的上一財年的營收約為 12.8 億美元。公司總部位於 8005 S.W.Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777。全球網站：http://www.mentor.com/。
（Mentor Graphics、Mentor 和Calibre是註冊商標。 nmDRC, nmLVS, PERC, xACT和 AFS 是Mentor Graphics 公司的注冊商標。所有其他公司或產品名稱是其各自所有者的注冊商標或商標。）
