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英特格:半導體製程導入新材料、汙染控制減少1000倍

本文作者:馬承信       點擊: 2019-10-06 10:40
前言:

照片人物:英特格技術長James A. O’Neill博士
    
半導體產業已經進入包含由物聯網、工業自動化、人工智慧、自動駕駛、5G通訊等趨勢構成第四波工業革命。這些趨勢帶動晶片需求,給半導體帶來成長。
不同階段有不同策略及挑戰,材料技術不斷演進,且應用的材料本質也開始改變。特用化學原料暨先進科技材料供應商英特格成立迄今已經有50年歷史,公司的使命是運用科學為基礎提供解決方案,協助半導體客戶在先進製程上應對各種挑戰。

英特格(Entegris)技術長James A. O’Neill博士表示,在個人電腦時代仰賴微縮技術,因為裝置越來越小;到了行動裝置時代,更導入新的材料來增加效能,以延續摩爾定律;現今不只需要微縮技術,更仰賴3D技術以及新的架構。
 
新的材料、晶片、形狀都與過去不同,對於半導體製程來說都是很複雜的挑戰。舉例來說,從20奈米轉換到7奈米,複雜程度是過去的兩倍。技術要驗證得更快,所以整個生產週期時間都是更短的。這表示在採用先進製程時,要達成較佳的良率更為困難,產業的重點就在於如何快速達到好的良率。

 要提高良率重點之一是汙染控制,從28奈米到7奈米,對於金屬雜質容忍程度已經減少1,000倍,而晶圓致命微粒則縮小將近四倍,這點非常重要,因為只要雜質或微粒等污染的容忍程度有了細微變動,對晶圓廠獲利都會造成很大的影響。

James A. O’Neill表示,在半導體先進製程中,需要新的金屬材料去提高阻抗與可靠度,當金屬材料改變時,下游製程,像是如何清洗都須要一併改變,因此,半導體製程中導入新的材料絕對不是一個簡單的過程。在材料品質的微粒控制來說,對於微粒可容忍的程度越來越低,即對汙染控制要求更高。
 
對材料公司來說,在生產與製造材料過程中保持產品的潔淨度已經不夠,必須要在整個生態系統中維持化學品潔淨度。英特格提供整個生態系統一貫的解決方案並提高晶圓良率。James A. O’ Neill表示,每提升1%製程良率,就能為先進邏輯晶片廠每年多帶來1.5億美元的淨利。

此外,英特格在蝕刻技術有很大的進步。英特格EUV製程的汙染控制與光罩盒在過濾技術上更能確保材料放在pattern上維持潔淨度。英特格不僅提供光罩盒,還有特殊化學品、過濾器、過濾技術,以及製程中各方面需要的材料和汙染控制,提供客戶最廣泛的解決方案。
  
 

 

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