2017年9月20日--Siemens業務部門Mentor今天宣佈，公司的Mentor Calibre® nmPlatform 與Analog FastSPICE™ (AFS™) 平台已通過台積電12奈米FinFET Compact Technology (12FFC) 與最新版本的7奈米FinFET Plus製程認證。此外，Nitro-SoCTM 佈局繞線系統亦通過認證，可支援台積電的12FFC製程技術。
台積電設計建構行銷部資深處長Suk Lee表示：「台積電很高興與Mentor密切合作，在Mentor工具流程藉由提供更多的功能以支援我們新的12奈米與7奈米FinFET Plus製程，持續在台積電生態系統中帶來更高的價值。Mentor是我們多年來的重要策略夥伴，擁有西門子將進一步投資Mentor電子設計自動化(EDA)技術的承諾，我們期望能協助雙方的共同客戶，把新穎以及更多令人驚豔的IC技術創新帶到市場。」
適用於台積電12奈米與7奈米 FinFET Plus製程的Mentor Calibre nmPlatform
Mentor增強了Calibre nmDRC™ 與 Calibre nmLVS™工具，以支援台積電最新版本的12奈米與7奈米FinFET Plus製程。Mentor與台積電合作，不僅可確保妥善的驗證覆蓋範圍，還針對runtime(執行期間)效能使設計套件最佳化。此外，台積電與 Mentor 共同合作，讓雙方的共同客戶在使用 Calibre設計規則檢查（DRC）與多重曝光軟體中能清楚易懂極紫外光（EUV）蝕刻需求。
Calibre xACT™ 寄生參數萃取工具亦獲得台積電的12奈米 v1.0與最新版7奈米 FinFET Plus製程認證，可達到所需的準確度要求。
Calibre YieldEnhancer 工具不僅通過台積電12奈米與7奈米 FinFET Plus製程認證，Mentor和台積電還共同增強了可最佳化填充執行時間的使用模型，透過工程變更命令(ECO)填充將形狀移除降至最低，並確保所有利用fill-as-you-go (隨製隨填)方法論的晶圓層能保持一致性。
Calibre PERC™ 可靠性平台是IP與全晶片可靠性分析的驗證解決方案。點對點與電流密度可靠性檢查對今日複雜且高密度晶片設計至關重要，但是要在非常大型的12奈米與7奈米FinFET Plus 設計上完成這些檢查，可擴充性不可或缺。台積電與Mentor 合作，使Calibre PERC 解決方案可運用新的多重CPU執行功能，能讓雙方的共同客戶更快地在其設計中找出並解決全晶片可靠性問題。
適用於台積電12奈米與7奈米 FinFET Plus製程的Mentor AFS平台
AFS平台，包括 AFS Mega 電路模擬工具，已通過台積電12奈米與7奈米 FinFET Plus製程認證。AFS平台支援所有台積電的行動與高效能運算(HPC)應用設計平台的所需特性。全球領先半導體業者的類比、混合訊號與射頻(RF)設計團隊都將能獲益於採用AFS平台，來驗證使用最新台積電技術設計的晶片。
適用於台積電12奈米製程的Mentor Nitro-SoC
Mentor的Nitro-SoCTM 佈局繞線系統已通過台積電12奈米製程認證。除了支援12奈米製程規則之外，Mentor還增強了Nitro-SoC的核心引擎，以滿足此高密度、省電製程的新標準單元(standard cell)架構需求及設計規則。這使Mentor可為12奈米節點提供數位建置流程。
Mentor副總裁暨Design to Silicon部門總經理Joe Sawicki表示：「Mentor很高興能成為台積電生態系統的重要成員。今年，台積電與Mentor共同擴展了解決方案，可持續為我們的共同客戶提供多種的設計方式，以為行動、高效能運算、汽車、以及IoT/穿戴裝置市場帶來更多的IC創新。」
